返回 第414章 光刻路线  回到1992当芯片大王 首页

上一页 目录 下一页

『章节错误,点此报送』

第414章 光刻路线[3/3页]

  做文章。193纳米已经近乎到达了目前人类认知的极限,光刻机领域卡在这里已经二十年都无法再进一步。

  现在在尝试研究的,一种是霓虹国在研究的157纳米,利用氟气准分子激光发出波长157纳米附近的真空紫外光;另一种是一位华人教授提出的,在保持193纳米光源的基础上,将光线与晶体的介质从空气变成水,通过水1.44的折射率,将193纳米的光波折射成134纳米的波长。”

  徐端仪说到这,抬头看了眼沈岳山,确定他这时候还听得懂。

  起码王大忠已经懵了,他的专业不在这个方向,技术储备只足够他听得懂大概,这种牵涉到前沿研究的领域,已经超过了他的认知范畴。

  “沈总?”徐端仪轻轻唤了声,确保一直沉默的沈岳山脑子还在线。

  但是没有回应,过了好一阵,徐端仪又唤了声:“沈先生?”

  这会儿沈岳山从思绪里反应过来了,他本来想凭记忆回忆起重生前三十年光刻机的技术发展路径,但显然是白费力气。

  当重新把思绪琢磨着徐端仪说的那番话时,他反应过来了。

  “确实没有第四种路径了对吧?”

  “没了。”徐端仪很是确认地摇摇头,打趣道:“光这三种假设已经耗费了全球物理学界众多精英的脑细胞,还要再想出第四种可能估计能逼疯不少人。”じ☆veWWω.ЫKメS.иEt✾ ั

  “那你说的157纳米哪个技术路线,叫什么来着?”沈岳山急忙问道。

  “叫干法刻蚀。”徐端仪快速回答。

  “确定这个干法刻蚀是霓虹国在研究的对吧?”

  “对,主要是尼康,这是他们主攻的方向。”徐端仪确认道。

  沈岳山猛一拍手掌,高声道:“行了,那就走第三条路线吧!就是哪个华人教授提出来的中间加水那条,这条路一定能成功!我说的!”

第414章 光刻路线[3/3页]

『加入书签,方便阅读』

上一页 目录 下一页