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第411章 光刻机的发展路径[3/3页]

　　光刻机也才到第四代，我们的差距并不遥远，只要技术上能追得上，我参与的企业都会毫不犹豫地优先购买你们的产品。”

　　听到这，徐端仪先是笑了笑，笑容里是对沈岳山的感谢，但旋即脸色一沉，长叹一声，说道：“沈总，说句心里话，我自己都没信心能追得上国际的主流技术了。”

　　沈岳山听着这话，甚是不解，“不应该啊，我们现在的制程就差的一代，差距并不大，应该完全有追上去的希望才是。”

　　“是，现在只差一代，”徐端仪说着：“但往后这种差距会越来越大。”

　　“为什么？”

　　“虽然在摩尔定律下，我们都知道集成电路上可容纳的晶体大约两年可以增加一倍。但是怎么增加？这是问题所在。”

　　徐端仪抬头确认沈岳山在认真听着，才继续说道：“光刻机的发展是可以提升集成电路的制程，未来可能有50纳米，20纳米的芯片。但是光刻机的发展是可以有很多路径的，他的发展方向在哪里？选择哪种路径能够走得更远？这个我们并不清楚，只能一步步索索。”じ☆veWWω.ЫＫメＳ.иＥｔ✾ ั

　　“但这个问题对于国外的光刻机企业而言也是一样的啊？”王大忠问道。

　　沈岳山却已经听明白了，补充道：“现在在华夏，只有徐教授的团队在钻研光刻机，他只能选择一条路径来研究，但如果发现这条路径不合适，上限很低，再想回头就已经来不及了，因为已经投入了不菲的资金和大量的时间，结果就是落后国外一大截。对吗？”

　　“对。”徐端仪点点头

　　沈岳山继续说道：“但是国外有‘半导体联盟’，他们内部的研发技术是完全共享的，可以同时选择不同的发展路径，试错成本低很多。他们只要有一家企业找到正确的方向，就可以共享技术成果，而徐教授只能自己低头摸索。”

　　听到这，王大忠恍然大悟，“所以现在是徐教授在和整个半导体联盟对抗？试错成本和技术积累根本就不在一个层次上啊！”

第411章 光刻机的发展路径[3/3页]

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